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磁控溅射工艺中使用的旋转银靶的制作方法

发布日期:2018-12-17 内容来源于:http://www.ksjmr.com/jmr/

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一种磁控溅射工艺中使用的旋转银靶,包括支撑架,固定卡扣,旋转轴,旋转银靶管体,电机,电机控制单元;所述旋转银靶管体内部穿有所述旋转轴,所述旋转轴通过所述旋转银靶管体两端的所述固定卡扣配合与所述旋转银靶管体相对固定,所述旋转轴一端与所述支撑架相连,所述旋转轴的另一端与所述电机相连。本发明的靶材利用率高,有效减少打弧和靶面掉渣,溅射速率高,降低了成本。

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